• Belichtung von Standardglassubstraten:
  4"x4", 5"x5" , Dicke: 1-3mm
• Belichtung kundenspezifischer Substratgrößen und -materialien
• Belichtung von Keramiksubstraten
• Abbildungsmaßstab: 1:5
• Auflösungsvermögen / Bildfeldgröße:
  

  numerische Apertur	ø 0,25	ø 0,29	ø 0,35
  Auflösungsvermögen (µm)	1,4	1,2	1,0
  Bildfeldgröße (mm2)	20x20	16x16	12x12

  
  
• Herstellung von Strichplatten entsprechend o.g. Abmessungen im Lift-Off-Verfahren bzw. als geätzte Teilungen
• Schichten:
  Chrom (Chromschichten analog Diadur 1/2/3/4, Schwarzchrom, Weißchrom), Silber, Aluminium
• Geräte:
  GCA 8000 Wafer Stepper Exposure System,
  AÜR 2 Automatischer Überdeckungsrepeater (modifiziert - Jenoptik GmbH)

Kontaktkopie

• Belichtung kundenspezifischer Substratgrößen und -materialien
• Abmessungen je nach Genauigkeit bis ca. 200 x 200 mm
• Auflösung: ca. 3µm
• Geräte:
  Suess Maskaligner, JUB 80 (Carl Zeiss Jena), JUB 2104 (Elektromat Dresden)