Am 17. September 2004 wurde eine neue Fertigungstrecke für optische Mikrostrukturen offiziell eingeweiht.
Spin-Coater
Laborarbeitsplätze
Mit der Investition von fast drei Millionen Euro konnten Fertigungskapazität und Produktportfolio signifikant erweitert werden.
Neueste Technik und Technologien sowie hoch qualifizierte Mitarbeiter garantieren auch die Befriedigung höchster Kundenanforderungen hinsichtlich Qualität, Flexibilität und Quantität.
Wafer Stepper GCA 8000
Sprüh-Puddle-Entwickler
Der gesamte Produktionsprozess - vom Beschichten der Platten mit Photoresist, dem Belichten im Waferstepper, Entwicklung der Strukturen, Ultraschallreinigung bis hin zur AR-Beschichtung und Qualitätskontrolle - werden in Reinraumumgebung ausgeführt.
Ultraschall Reinigung
CS-400S Sputter System
Die eigens auf die Anforderungen der
POG angepasste Sputteranlage CS-400S der Firma von ARDENNE-Anlagentechnik
GmbH ist ein neu entwickeltes Clustersystem, das das Beschichten
von Substraten mit Breitband-Antireflexschichten sowie
HRC- und LRC-Schichten ermöglicht. Wesentliche Vorteile
gegenüber den herkömmlichen Verfahren liegen
in der erhöhten mechanischen Belastbarkeit der Schichten
sowie den kürzeren Durchlaufzeiten.
Neue
